十五年前，在集成电路领域有那么一句话，那就是“除了水和空气，其他做芯片的东西都需要进口”。诚然，中国大陆在集成电路领域落后于欧美日韩等先进国家。

在CCTV2昨晚的《中国大陆财经报道》中指出，全球有50%以上的彩电，70%以上的智能手机和平板都是由中国大陆制造的，但是应用在这些电子产品的芯片，则90%以上依赖进口。中国大陆每年进口芯片总额超过2000亿美元。因此对中国大陆来说，需要从集成电路领域进行建设创新。

从2014年以来，中国大陆已经在芯片制造、设计和封测等多个领域进行投资建设，并取得了不错的效果。但在材料和设备领域，由于受限于其他国家的出口限制，中国大陆在半导体材料和设备方面只能受制于人，有很多高端设备并不能获取得到。但是在一些中国大陆企业家的努力下，中国大陆在设备和材料领域都有了新的突破。

集成电路的主要环节

安集微电子：CMP研磨液打破外国垄断

在芯片生产过程中，有一道重要的工序叫做化学机械抛光（英语：Chemical-Mechanical Polishing），又称化学机械平坦化（英语：Chemical-Mechanical Planarization，缩写 CMP），而当中要用到一种化学添加剂，也就是研磨液。

研磨液是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物，研磨材料主要是石英，二氧化铝和氧化铈，其中的化学添加剂则要根据实际情况加以选择，这些化学添加剂和要被除去的材料进行反应，弱化其和硅分子联结，这样使得机械抛光更加容易。在应用中的通常有氧化物磨料、金属钨磨料、金属铜磨料以及一些特殊应用磨料。

安集微电子有限公司就是聚焦在这一块研发的公司。该公司成立于2004年，是一家集研发、生产、销售为一体的高新技术企业，致力于高增长率和高功能集成电路材料的研发和生产，是目前国内规模最大的专业从事高功能集成电路材料公司之一。拥有世界一流技术团队、研发中心和生产基地。目前，安集公司已与全球数十家客户进行了各阶段合作，其中包括多家世界著名芯片企业。安集成功研发、具有自主知识产权的产品已成功运用于国内外芯片制造行业。

在2007年以前，研磨液这种材料全部依靠进口。一桶200升的研磨液，价格可高达7000美元，相当于当时石油价格的60倍。

由于中微取得了突破，打破了美德的垄断，美国商业部特意发了一个公告，由于认识到中微在中国大陆可以做出在国际有同样竞争力的等离子刻蚀机，决定把这个等离子刻蚀机从美国对中国大陆的单子上去掉。

结论

无疑，在现在的国际环境中，中国大陆需要在设备、材料、设计、制造等方面有了突破，才能达到可控。虽然现在有了些成绩，但中国大陆厂商仍需要继续努力。就像王淑敏举的一个例子：装载研磨液的桶国内都做不了，还需要全部进口，因此中国大陆半导体的崛起，还有很长的一段路要走，中国大陆厂商需要继续努力。